中芯国际在面对光刻机争夺时，将ASML设备当成了依赖，国产设备的使用意愿并不强烈。这个问题从2024年初就已经显现，荷兰新规一出台就给中芯北京厂的DUV设备许可施加压力，导致扩产计划受阻。企业为了应对这种局面，早在2023年到2024年期间就囤下了大量设备，但后续零件供应中断，给生产线带来了困扰。员工们还在努力维护现有方案，确保涂胶和检测环节正常运转。下游车用和物联网市场依然在等待交付，中芯国际希望通过这种稳健的方式，将自给率从23%逐步提升上去。 ASML的DUV光刻机依旧抢手，大家还是愿意购买它，因为它与沉积和刻蚀等环节配合得很好。上海微电子SSA800系列已经交付了十多台，在中芯和华虹产线上进行验证。90纳米工艺更是早已量产，成本只有进口设备的三分之一左右。不过由于生态匹配还需进一步调整，软件算法和对齐误差需要优化，企业在采购国产设备时还显得比较谨慎。宇量昇的浸没式设备零件国产化率很高，但与其他设备联通时可能出现小偏差，因此团队会多跑几轮验证数据，避免整条产能受到影响。 北方华创和中微公司的设备在刻蚀和薄膜上已经应用开来，国产化率从14%提升到18%。政策引导企业投资转向本土供应链后，资金流向本土企业逐渐增多。上海微电子600系列90纳米工艺已经稳定生产，28纳米工艺也在同步开发中。中芯国际通过测试宇量昇设备积累兼容性数据后，售后服务和组装环节也得到了加强。这个过程很接地气，过去依赖进口的习惯一旦被打破，就会促使整个链条动起来。 外部管制越来越严格时，企业会选择成熟节点来稳住局面再向前冲。2025年上半年中国购买ASML设备的份额占到了三成多，价值超过六百亿元。这个数据表明市场需求并没有减弱。2025年9月中旬时，中芯国际把国产DUV机拉进来试用。宇量昇那台浸没式设备大部分零件已国产化，早期跑片数据还算稳定。针对AI芯片的7纳米多重曝光有了眉目。 2025年头一次出现了半导体设备市场下滑迹象时支出预计会降到四百一十亿左右比前一年少一些。中芯国际咬紧牙关坚持资本开支并没有停止反而多投向本土链条测试线跑起来后就反复优化多重曝光参数良率一点点往上爬稀土管制回应后ASML那边库存还能撑短期可长远供应紧张这种情况下企业还是把目光投向了国内链条资本开支并未停止反而转向本土ASML的份额占到九成以上尽管良率控得住但是还只能拿到落后几代的货先顶着在这个过程中中国购买份额还占到三成多超过六百亿这说明需求真的没有断但选择的时候还要算整体线平衡。 因此，中芯厂通过这些调整继续进行工程师们调参数优化曝光剂量测试报告翻来覆去比对设备兼容性一点点完善外部限制虽紧但本土突破实打实7纳米多重曝光已能扛住AI需求市场份额虽有波动却没乱阵脚产业投资转向后北方华创那些平台设备上量快整体自给率稳步升供应链短板补得有节奏。