光刻机的地位有多高？ 这个行业里最核心的设备——光刻机，花掉了整个半导体工厂超过23%的钱，绝对是皇冠上的明珠。一台机器里面装着上万件精密零件，数学、光学、流体力学还有好多顶尖技术都融合在一起。更关键的是，40%到60%的芯片生产时间，还有30%的成本都扔在了这个环节上。要是有一次曝光出错，整片硅片可能就彻底报废了。正因如此，大家才把光刻机叫做“半导体工业皇冠上的明珠”。 全球市场谁是老大？ 这个市场格局短时间内很难打破。因为门槛太高，造成了寡头局面——ASML、尼康和佳能三家公司抢走了99%的市场份额。ASML靠着不停地研发和并购，已经把EUV光刻机的市场占有率做到了100%，稳稳地坐在一线位置。尼康和佳能只能守住二线、三线的位置。至于中国的SMEE公司，虽然已经能生产低端光刻机，但要想跟上7nm以下的高端制程，还差着一大截呢。 中国怎么突围？ 国产替代这条路分成了三步：1977年第一台国产光刻机下线。 那时候国内刚成功研发出第一台光刻机，后来八年又陆续推出了三台样机。当时的技术水平和世界差不多。 2002年国家决定重启自主研发。 80年代那会儿大家觉得“造不如买”，国产光刻机发展就停住了。2002年之后国家加大了投入，追赶国际巨头的号角又吹响了。 28nm成了关键的“0到1”节点。 随着全球的晶圆厂都往中国跑，28nm的国产光刻机预计明年就能交货了。这个节点特别关键：因为性价比高；市场空间也很大；还能向下兼容生产更先进的芯片。 风险有哪些需要警惕？ 四大风险得看好：核心部件研发进度跟不上；行业景气度如果下滑；外国要是再突破先进技术；还有技术管制要是升级。潜伏专题会一直盯着全球的情况和政策动向，争取在“量价齐升”的拐点前先下手为强。