在半导体制造、光学器件加工等高端领域，步进投影光刻机的精度要求已进入纳米级。但地面振动、设备运转带来的微小扰动，就可能造成曝光图案偏移，甚至导致产品报废。有统计显示，在部分工艺中，振动引起的良率损失最高可达15%。因此，空气隔振技术正成为精密制造环节中的关键支撑。
超精密制造的竞争，不仅在“看得见”的核心工艺与关键部件，也取决于“看不见”的稳定性底座。空气隔振器并不起眼，却是连接微振动与高精度之间的重要关口。只有把隔振等基础环节做到极致，以系统工程打通设计、制造与应用，才能让高端装备在复杂环境下长期保持可控、可重复、可量产的稳定运行。